Лаборатория физики тонких пленок
Одним из научных направлений ИФИТ РУДН является «Фотоника и оптоэлектроника».
Фотоника является одной из самых инновационных отраслей современной науки и техники, центральными областями исследования которой являются волоконная и интегральная оптика, в том числе нелинейная оптика, физика и технология полупроводниковых соединений, полупроводниковые лазеры, оптоэлектронные устройства и устройства высокоскоростной передачи и обработки информации.
Работы в этой области были начаты на кафедре радиофизики РУДН более 50 лет назад под руководством профессора Л. Н. Дерюгина и носили пионерский характер. Комплекс проведенных исследований, заложил основы нового направления науки и техники, названного за рубежом интегральной оптикой, дальнейшее развитие которой привело к созданию современной фотоники. 
В настоящее время в лаборатории физики тонких пленок ИФИТ РУДН продолжаются работы в области создания базовых элементов фотоники на основе тонкопленочных оксидных структур и фотонных кристаллов, для устройств оптической связи и обработки информации нового поколения. Также проводятся исследования совместно с кафедрой физической и коллоидной химии направленные на создание тонкопленочных фотокатализаторов и газовых сенсоров. Основными научными проблемами являются:
В лаборатории выполняются курсовые и выпускные работы студентов ИФИТ. Студенты старших курсов выступают на международных и российских научных конференциях, являются авторами научных публикаций.
Оборудование
Лаборатория физики тонких пленок располагает парком технологического оборудования для нанесения тонкопленочных покрытий методами катодного, магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления. Наряду с физическими методами нанесения активно разрабатывается новый гель-метод нанесения тонкопленочных покрытий.
Установка вакуумная A550VZK Leybold Heraeus, Германия. Установка предназначена для нанесения пленок металлов и диэлектриков методом ВЧ реактивного катодного распыления. Обеспечивает предельный вакуум 10-6 мбар. Имеет 3 катода диаметром 200мм, что позволяет наносить пленки трех различных материалов в одном цикле.
Установка вакуумная EVA Alcatel, Франция. Установка для термического и магнетронного распыления. Система откачки построена на основе крионасоса, что позволяет обеспечивать предельный вакуум 10-8 мбар. Имеет 3 магнетрона диаметром 150 мм. Благодаря высокому предельному вакууму позволяет получать пленки химически активных металлов, в частности титана.
Установка вакуумная PP-601,Чехия. Установка для ионного травления металлов и диэлектриков. Позволяет осуществлять травление структур на металлических и диэлектрических подложках с помощью источника ионов ИИ-4-015. Также позволяет осуществлять термическое напыление металлов. Благодаря большому размеру рабочей камеры позволяет получать пленки с высокой степенью однородности в плоскости подложки.
Пост вакуумный универсальный ВУП-5.Универсальная вакуумная установка для нанесения тонких пленок металлов методом термического испарения. Обеспечивает предельный вакуум 10-5 мбар. Позволяет обрабатывать подложки диаметром до 100мм.
Эллипсометр ЛЭФ -3М. Измерение оптических констант многослойных структур.
Интерферометр МИИ-4. Измерения параметров шероховатости поверхностей, а также для измерения толщин пленок.